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          Ossila-UV Ozone Cleaner

          簡要描述:UV Ozone Cleaner是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

          • 產品型號:L2002
          • 廠商性質:生產廠家
          • 更新時間:2024-10-25
          • 訪  問  量:3444

          詳細介紹

          品牌Ossila/歐西拉產地類別進口
          應用領域醫療衛生,食品,石油,能源,電子

          Ossila-UV Ozone Cleaner

          目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。

          表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE,對有機物質所起的光敏氧化分解作用,以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物(碳氫化合物),獲得超潔凈的表面。

          表面UV光改質:利用紫外光照射有機表面,在將有機物分解的同時,254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學結構切斷,光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。

          UV Ozone Cleaner主要應用

          • 石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
          • 微電子產品的表面清洗:微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
          • 精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
          • 在膠粘接或是印刷之前,對高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
          • 科研過程的表面清洗及處理:半導體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學等              

          產品特點

          • 成本低。
          • 120x120mm樣品臺。
          • 大處理樣品高14mm。
          • 抽屜式樣品臺,簡單方便。                                 
          • 樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉,防止對人身傷害。        
          • UVO顯示器
          • LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”。
          • 60分鐘定時器。
          • 高強度UV燈源。
          • 可控溫的樣品臺。
          • 樣品清洗無需溶劑。
          • 超凈表面。  

          • UVO樣品托盤

            二、技術參數

            紫外燈類型

            低壓石英水銀蒸汽燈

            紫外線燈的主要波長

            185nm和254nm

            UV燈管尺寸

            100x100mm

            UV燈電源

            4000V,30mA

            UV燈壽命

            每天使用可用8-10年

            適用電壓

            230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)

            大運行時間

            59分59秒

            安全

            安全聯鎖,高溫報警,高溫斷電。

            托盤尺寸

            120x120mm

            大樣品尺寸

            100x100mm

            總尺寸

            長204mm、高227mm、寬300mm

            在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。

               

                    

           

           

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